制药厂气体处理设备

制药厂气体处理设备的简单介绍

制药厂气体处理设备的详细信息

、光催化氧化是在外界可见光的作用下发生催化作用,光催化氧化反应是以半导体及空气为催化剂，以光为能量，将有机物降解为CO2和H2O。本公司采用的半导体是目前反应效率最高的纳米TiO2光催化剂,经过特殊处理后使用,达到理想效果。
2、在光催化氧化反应中，通过高能光照射在纳米TiO2光催化剂上产生电子空穴对，与表面吸附的水份（H2O）和氧气（O2）反应生成氧化性很活波的羟基 自由基（OH-）和超氧离子自由基（O2-、0-）。能够把各种废臭气体如醛类、苯类、氨类、氮氧化物、硫化物及其它VOC类有机物、无机物在光催化氧化 的作用下还原成二氧化碳（CO2）、水（H2O）以及其它无毒无害物质,同时具有除臭、消毒、杀菌的功效，由于在光催化氧化反应过程中无任何添加剂，所以 不会产生二次污染。
3、光催化氧化的特点：

（1）光催化氧化适合在常温下将废臭气体完全氧化成无毒无害的物质，适合处理高浓度、气量大、稳定性强的有毒有害气体。

（2）有效净化彻底：通过光催化氧化可直接将空气中的废臭气体完全氧化成无毒无害的物质，不留任何二次污染。

（3）绿色能源：光催化氧化利用人工紫外线灯管产生的真空波紫外光作为能源来活化光催化剂，驱动氧化—还原反应，而且光催化剂在反应过程中并不消耗，利用空气中的氧作为氧化剂，有效地降解有毒有害废臭气体成为光催化节约能源的最大特点。

机物如三氯甲烷、四氯化炭、六氯苯、都能有效地加以分解，所以对难以降解的有机 物具有特别意义，光催化的有效氧化剂是羟基自由基（OH-）和超氧离子自由基（O2-、0-），其氧化（4）氧化性强：半导体光催化具有氧化性强的特点，对臭氧难以氧化的某些有性高于常见的臭氧、双氧水、高锰酸钾、次氯酸等。

（5）广谱性：光催化氧化对从烃到羧酸的种类众多有机物都有效，即使对原子有机物如卤代烃、染料、含氮有机物、有机磷杀虫剂也有很好的去除效果，只要经过一定时间的反应可达到完全净化。

（6）寿命长：在理论上，光催化剂的寿命是无限长的，无需更换。

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