我国光学薄膜精密微复制技术取得重大突破

作者： 2017年11月13日来源：浏览量：

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经过3年科技攻关，我国光学薄膜精密微复制技术取得重大突破，成功打破国外技术垄断。这是记者10日从湖北省国防科工办和湖北航天化学技术研究所获得的消息。　　据介绍，光学薄膜精密微复制技术是在光学薄膜基材表面

　　经过3年科技攻关，我国光学薄膜精密微复制技术取得重大突破，成功打破国外技术垄断。这是记者10日从湖北省国防科工办和湖北航天化学技术研究所获得的消息。

　　据介绍，光学薄膜精密微复制技术是在光学薄膜基材表面精密涂布特定配方树脂，然后在拥有特定设计纳微尺度几何结构的雕刻辊上成型的技术。其广泛应用于液晶平板显示器背光模组增亮膜和扩散膜、道路交通标识微棱镜反光膜、液晶显示器保护用防反射膜和防窥膜、裸眼3D显示功能膜以及家电用仿金属拉丝高光膜等。这些产品附加值高，市场需求大，关键技术一直掌握在国外公司手中。

　　2014至2016年，湖北航天化学技术研究所承担湖北省重大科技专项“光学薄膜精密微复制工艺制备关键技术开发及应用”，先后开展了结构设计、刻印树脂配方研究和涂布工艺研究，近日已通过湖北省科技厅验收。

　　湖北航天化学技术研究所相关负责人说，他们设计出特殊表面涂层微结构，开发出特殊刻印涂层树脂配方，在光学薄膜刻印涂层背面采用防眩、防划伤或防静电处理，提高产品收益率20%以上，极大地提高了我国新材料产业链科技水平。

　　据介绍，目前，这项技术已在重要国防项目中得到应用，申报发明专利10件。

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